FISCHIONE NanoMill

Печать

FISCHIONE NanoMill установка для создания высококачественных тонких образов для ПЭМ Высокого Разрешения.

Проблема

В результате специфики ионного травления и ионной полировки происходит повреждение материала в виде аморфного слоя, кроме того в системах FIB в процессе подготовки  происходит имплантация галлия в образец. Толщина поврежденного слоя может варьироваться в пределах 10-30 нм и его наличие в ПЭМ не позволяет получить четкое изображение в фазовом контрасте и существенно искажает информацию. 

        Установка NanoMill позволяет быстро удалять поврежденный слоя и выравнивать поверхность с помощью фокусированного низкоэнергетического пучка ионов, детектор вторичных электронов позволяет визуализировать и задавать область ионной полировки.

Характеристики

Ионный источник 

  • Ионный источник, комбинированный с электронно-линзовой системой.
  • Варьируемое напряжение  50 -2000 эВ
  • Плотность тока пучка вплоть до 1мA/см2
  • Диаметр пучка менее 2 мкм 
  • Ток пучка  в диапозоне  1-2000 пА

Углы наклона образца

  • в режиме просмотра СИМ -10 до +30 
  • в режиме полировки  -10 до +10

Вакуумная система 

  • Полностью без масляная система откачки, турбомолекулярный насос + мембранный насос

Газовая система

  • Скорость потока до 2 см3/мин.
  • Интегрированный фильтр микрочастиц
  • Инертный газ – аргон

Режимы полировки  

  • Воздействие в точке 
  • Сканирование выбранной области

Охлаждение 

  • Система позволяющая охлаждать образец до температуры  -175oС 
  • Время охлаждения системы 20 минут
  • Время охлаждения образца 5 минут
  • Интегрированная печь обеспечивает быстрое  нагревание образца до комнатной температуры

Визуализация 

  • Детектор вторичных электронов позволяет регистрировать изображение в режиме ионного микроскопа

 

 

 ВРПЭМ изображение гетероструктуры GaAs/AlGaAs подготовлен на установках GATAN - dimple grinder и PIPS 

 ВРПЭМ изображение гетероструктуры GaAs/AlGaAs подготовлен на установках Zeiss CrossBeam 1540 XB и FISCHIONE NanoMill