FISCHIONE NanoMill

Печать

FISCHIONE NanoMill установка для создания высококачественных тонких образов для ПЭМ Высокого Разрешения.

Проблема

В результате специфики ионного травления и ионной полировки происходит повреждение материала в виде аморфного слоя, кроме того в системах FIB в процессе подготовки  происходит имплантация галлия в образец. Толщина поврежденного слоя может варьироваться в пределах 10-30 нм и его наличие в ПЭМ не позволяет получить четкое изображение в фазовом контрасте и существенно искажает информацию. 

        Установка NanoMill позволяет быстро удалять поврежденный слоя и выравнивать поверхность с помощью фокусированного низкоэнергетического пучка ионов, детектор вторичных электронов позволяет визуализировать и задавать область ионной полировки.

Характеристики

Ионный источник 

Углы наклона образца

Вакуумная система 

Газовая система

Режимы полировки  

Охлаждение 

Визуализация 

 

 

 ВРПЭМ изображение гетероструктуры GaAs/AlGaAs подготовлен на установках GATAN - dimple grinder и PIPS 

 ВРПЭМ изображение гетероструктуры GaAs/AlGaAs подготовлен на установках Zeiss CrossBeam 1540 XB и FISCHIONE NanoMill