Нанолитографический комплекс   NanoMaker 

Программно-аппаратный комплекс NanoMaker производства Interface Ltd., предназначенный для проектирования и создания структур методами ионно- и электронно-лучевой  литографии.

Система позволяет выполнять экспонирование резиста, распыление материала ионным пучком и захват изображения с микроскопа, компенсировать статические и динамические ошибки отклоняющих систем микроскопа. Программное обеспечение позволяет подготовить данные для экспонирования или импортировать данные из растрового изображения.

Помимо стандартного ПО Nanomaker дополнительно установлено программное обеспечение, моделирующее процесс распыления материала ионным пучком путём решения обратной задачи с учетом зависимости скорости распыления материала от угла падения пучка, изменяющегося в процессе распыления.

Параметры:

•  Минимальное время экспонирования: 0,15 мкс
•  Минимальное время снятия изображения в точке: 1,0 мкс
• Шаг приращения времени экспонирования (при частоте процессора ПК 1000 мГц): 2 нс
• Минимальное время стояния в точке в режиме BeamOutAfterPoint: 0,4 мкс
• Время циикла накопления изображения: 0,12 мкс 

 Программное обеспечение:

Специализированное ПО Nanomaker