Russian (Russia)

Двулучевая рабочая станция Zeiss  Auriga Laser

Рабочая станция Auriga Laser с пересекающимися сфокусированными ионным и электронным пучками предназначена, главным образом, для проведения прецизионной локальной модификации (имплантации, аморфизации, металлизации, распыления) поверхности образцов под воздействием ионов.

Станция дополнительно укомплектована системой напуска газов, твердотельным лазером, системой литографии, столом с возможностью перемещения по 6 осям, микроманипулятором Kleindiek Nanotechnik.

Особенности:

  • Скрещенные электронная и ионая колонны (CrossBeam) .
  • Полностью безмасляная вакуумная система  
  • Шлюз для быстрой смены образцов со встроенным лазером

 Электронная колонна GEMINI® с автоэмиссионной катодом

Параметры:

  •  Увеличение: 12× - 1000000×
  • Пространственное разрешение (предельное)
Ускоряющее напряжение   Разрешение
15 кВ  1.0 нм
1 кВ      1.9 нм
  • Ток пучка:  10 пA - 20 нA
  • Стабильность тока пучка: менее 0,2% / час 
  • Ускоряющее напряжение: 0.1 – 30 кВ

Основные характеристики и дополнительные возможности:

Ионная колонна COBRA® с жидкометаллическим галлиевым источником

Параметры:

  •  Увеличение: 300× - 500000×
  • Пространственное разрешение (предельное)
Ускоряющее напряжение   Разрешение
30 кВ  2.5 нм
      
  • Ток пучка:  1 пA - 50 нA
  • Ускоряющее напряжение: 1.0 – 30 кВ

Детекторы

  • детектор вторичных электронов Эверхарта-Торнли (SE2)
  • внутрилинзовый детектор вторичных электронов (In-Lens)
  • инфракрасная CCD камера 
  • внутрилинзовый детектор обратно-рассеянных электронов с фильтрацией по энергиям (EsB)
  • вдвижной четырёхквадрантный детектор обратно-рассеянных электронов (NTS BSD)
  • система регистрации тока, наведённого электронным пучком (EBIC)

Система инжекции газов (GIS)

Включает следующие прекурсоры:

  • Триметил платина (C9H16Pt) - осаждения платины
  • Гептагидрат сульфата магния (MgSO4·7H2O) - осаждения воды 
  • Фенантрен (C14H10) - осаждения углерода
  • Diacetoxy-di-tert-butoxysilane (C12H24O6Si) - осаждения диоксида кремния (SiO2)
  • Фторид ксенона II (XeF2) - травление кремния

Встроенный твёрдотельный лазер Trumpf TruMark 6000

Длина волны 355 нм
Длительность импульса 4 – 20 нс
Частота импульсов 1 – 120 кГц
Мощность в импульсе до 20 кВт
Диаметр пятна фокусировки 15 мкм
Расположение шлюз камеры
   

Микроманипулятор Kleindiek Nanotechnik.

Трёхосевой микроманипулятором с пьезоприводом и управлением в реальном времени
Минимальный шаг: 25 нм 

Система литографии Raith Elphy Plus

Полностью совместимая с двулучевой рабочей  станцией Zeiss  Auriga Laser система для проведения электронной и ионной нанолитографии.

 Программное обеспечение:

 SmartSEM® 

  Russian (Russia)